化学镀Ni—Cr—P合金工艺研究 |
| |
引用本文: | 安茂忠,张景双.化学镀Ni—Cr—P合金工艺研究[J].电子工艺技术,1994(2):8-10,13. |
| |
作者姓名: | 安茂忠 张景双 |
| |
作者单位: | 哈尔滨工业大学电化学教研室 |
| |
摘 要: | 论述了化学镀Ni—Cr—P合金的可行性,指出:镀液的配制方法对镀层含铬量有较大影响,将Cr ̄(6+)还原为Cr ̄(3+),并形成Cr ̄(3+)活性络离子后再加入镀液,控制其它条件在最佳范围,可使镀层含铬量达1%以上。镀液中的铬合剂、稳定剂对镀层质量、镀层组成、沉积速度有较大影响。化学镀过程中应严格控制pH值,因为它对沉积过程有极大影响。化学镀Ni—Cr—P合金镀层具有较小的电阻温度系数,适用于电子零部件的表面处理。
|
关 键 词: | 化学镀 镍铬磷合金 |
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录! |
|