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薄膜制作技术的现状
作者姓名:
金原粲
作者单位:
日本东京大学工程系
摘 要:
一、前言 薄膜制作技术有多种方法。本文只介绍采用真空技术的薄膜制作技术。最基本的薄膜制作法可大致分为两种,一种是选择除去法,另一种是附加法。 前者是在某种化合物存在固体表面时,只除去表面的特定原子,使表面形成与其内部异质的薄层,从而形成薄膜。该薄膜与其下部的物质附着性极好,但形成的薄膜和其基片材料受到很大制约,所以该法用得不多。
关 键 词:
薄膜制作技术 薄膜 制作
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