首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

薄膜制作技术的现状
作者姓名:金原粲
作者单位:日本东京大学工程系
摘    要:一、前言 薄膜制作技术有多种方法。本文只介绍采用真空技术的薄膜制作技术。最基本的薄膜制作法可大致分为两种,一种是选择除去法,另一种是附加法。 前者是在某种化合物存在固体表面时,只除去表面的特定原子,使表面形成与其内部异质的薄层,从而形成薄膜。该薄膜与其下部的物质附着性极好,但形成的薄膜和其基片材料受到很大制约,所以该法用得不多。

关 键 词:薄膜制作技术 薄膜 制作
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号