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| 硅片处理系统与光刻 | |
| 作者姓名： | 马化营 |
| 作者单位： | 国营西北机器厂 |
| 摘 要： | <正> 半导体器件的集成度越来越高,最小加工尺寸越来越小,硅片尺寸越来越大,这无疑越来越增加了光刻的难度,对光刻技术与硅片处理系统提出了更高的要求。 光刻,是一种图象复印同刻蚀(化学、物理、或二者兼而有之)相结合的综合性技术。在集成电路的制造过程中,需要经过每次光刻,其质量是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素之一。 光刻的质量,可以由分辨率、光刻精度 |
| 关 键 词： | 硅片处理系统 光刻 清洗 涂胶 |
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