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沉积温度对AZO薄膜性能的影响
引用本文:李晓东,邵世强.沉积温度对AZO薄膜性能的影响[J].玻璃与搪瓷,2016(1):1-4.
作者姓名:李晓东  邵世强
作者单位:信义光伏产业(安徽)控股有限公司,安徽芜湖,241009
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2013 AA030602)
摘    要:在采用直流磁控溅射制备AZO(Aluminum Doped Zinc Oxide,掺铝氧化锌)薄膜的过程中,AZO薄膜的光电性能取决于镀膜过程中的各种工艺参数,包括溅射气压、沉积温度、溅射功率和靶基距等。本文主要研究在固定其它工艺参数不变的情况下,通过改变沉积温度在不同的温度下分别制备AZO薄膜,利用SEM、X射线衍射仪等测试不同AZO薄膜的微观结构,并分析研究不同沉积温度下制备AZO薄膜光电性能及结构的变化特性,以筛选出制备高质量AZO膜的最佳沉积温度。

关 键 词:AZO薄膜  磁控溅射  沉积温度  性能  微观结构

Effect of Deposition Temperature on the Properties of AZO Thin Films
LI Xiaodong,SHAO Shiqing.Effect of Deposition Temperature on the Properties of AZO Thin Films[J].Glass & Enamel,2016(1):1-4.
Authors:LI Xiaodong  SHAO Shiqing
Abstract:
Keywords:AZO  magnetron sputtering  film deposition temperature  performance  microstructure
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