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| 国外椭偏仪性能简介 | |
| 作者姓名： | 冯长川 |
| 作者单位： | 苏州半导体总厂 |
| 摘 要： | 各种薄膜工艺参数和质量(厚度、折射率的数值及其均匀性等)的精确、快速测定和控制,在半导体器件生产、研制中有着极其重要的作用.现综合评述美国Rudolph研究公司应用材料公司、Gaertner科学公司和Sagax国际公司开发的从手动到自动椭偏仪系列的几代椭偏仪产品,并和其它薄膜厚度测量技术进行比较. |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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