硒蒸气硒化法制备CIGS薄膜的影响因子(I)氩气流量对CIGS薄膜结构和形貌的影响 |
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作者姓名: | 韩东麟 张弓 庄大明 元金石 宋军 |
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作者单位: | 清华大学机械工程系,北京100084 |
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摘 要: | 采用中频交流磁控溅射方法,在Mo层上沉积了CuInGa(CIG)预制膜。以Ar为载气,采用固态硒化法制备获得了cu(In1-xGax)Se2(CIGS)吸收层薄膜,考察了Ar流量对CIGS薄膜结构和形貌的影响。采用SEM和EDS观察和分析了薄膜的表面形貌和成份,采用XRD表征了薄膜的组织结构。结果表明,在不同血流量下制备的CIGS薄膜均具有单一的黄铜矿相结构,薄膜具有(112)面的择优取向。随着Ar流量的增大,CIGS薄膜晶粒直径增大。当舡流量为0.20m^3/h时,薄膜的孔隙最少。当Ar流量达到0.40m^3/h时,薄膜晶粒出现明显的柱状生长。当心流量为0.10、0.20和0.30m^3/h时,所制得的CIGS薄膜的Cu、In、Ga原子含量比,处于弱P型的理想范围。
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关 键 词: | 太阳电池 CIGS 磁控溅射 薄膜 硒化 |
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