| 应用XPS研究碘化铯光阴极的热稳定性 |
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| 引用本文： | 谈凯声,潘智勇,刘风琴.应用XPS研究碘化铯光阴极的热稳定性[J].广东有色金属学报,1993(3). |
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| 作者姓名： | 谈凯声 潘智勇 刘风琴 |
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| 作者单位： | 中国科学院电子学研究所，中国科学院电子学研究所，中国科学院高能物理研究所 |
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| 摘 要： | 本文应用XPS(X射线光电子能谱仪)研究了真空烘烤对碘化铯光阴极化学状态的影响.实验结果表明在高真空环境中,碘化铯光阴极在低于180℃的烘烤条件下即以缓慢的速率升华,但是,它的化学状态是稳定的.而在高于180℃的烘烤条件下,它的化学状态将发生变化.
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| 关 键 词： | X射线光电子能谱仪 碘化铯光阴极 化学状态 热稳定性 |
Thermal Stability Analysis of Csl Photocathode with XPS |
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| Tan Kaisheng Pan Zhiyong Institute of Electronics,Academia Sinica,Beijing,China
Liu Fengqin Institute of High Energy Physics,Academia Sinica,Beijing,China.Thermal Stability Analysis of Csl Photocathode with XPS[J].Journal of Guangdong Non-Ferrous Metals,1993(3). |
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| Authors: | Tan Kaisheng Pan Zhiyong Institute of Electronics Academia Sinica Beijing China
Liu Fengqin Institute of High Energy Physics Academia Sinica Beijing China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | XPS CsI photocathode chemical state thermal stability |
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