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| 改善耐磨性和耐蚀性的低温涂层的等离子体辅助CVD | |
| 引用本文： | 晨亮.改善耐磨性和耐蚀性的低温涂层的等离子体辅助CVD[J].国外核聚变与等离子体应用,1998(3):69-75. |
| 作者姓名： | 晨亮 |
| 摘 要： | 在本研究中描述了从热ＣＶＤ（９００－１１００℃）越过等离子体辅助ＣＶＤ（ＰＡＣＶＤ），到用有机金属ＰＡＣＶＤ（ＭＯ－ＰＡＣＶＤ）的低达１４０℃的甚低落曙沉积这一合连续改善及它们的相应应用。研究了钢基体、硬金属、陶瓷基体以及时效硬化铝合金上ＴｉＮ、ＴｉＣ、ＴｉＣＮ、ＺｒＣｎ、ＺｒＢＣＮ、ＢＣＮ单层体系和多层体系的沉积。光发射光谱测定术已用于识别在等离子体辅助工艺期间放电中的粒种，并用于工艺最佳化和控 |
| 关 键 词： | 等离子体辅助 CVD 低温 涂层 等离子体诊断 |
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