摘 要: | TN4 96020348半导体集成电路的柔性生产技术/罗浩平(华晶电子集团中央研究所)//半导体技术一1995,(6)一10一l6 图l表1(文)的集成电路和器件图形直接光刻在Si和GaAs等圆片上.电子束直接曝光设备在军事微电子领域具有非常广泛的应用前景。图4表2(许)TN4 96020349no:超细微粒的有序组装/顾宁,沈耀春,陆祖宏,袁春伟,韦饪(东南大学)//微细加工技术一1995,(3)一26~31 将水解法制备的Tio:超细微粒溶胶液滴于水平放置的高取向热解石墨基底}认可形成一定面积的有序性排列较好的二维结构。此外,对比观察了落滴一j-水平云母基底上形成膜的表面形貌,…
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