|
|||||
|
|
| 新的光学薄膜——类金刚石碳膜 | |
| 引用本文： | 刘胜永,王尚铎.新的光学薄膜——类金刚石碳膜[J].激光与红外,1983(11). |
| 作者姓名： | 刘胜永 王尚铎 |
| 摘 要： | 众所周知,金刚石非常有用,但在某些工业领域里,比如半导体工业或光学工业中,需要金刚石薄膜。到目前为止,虽很少制得真正的金刚石薄膜,却也获得了很大的进展。采用等离子体淀积技术或离子束工艺已制备出了类金刚石的碳膜,这种碳膜也可称它为菱形碳膜或无定形碳膜。其电阻率可达10~(12)Ω·cm,折射率为1.9～2.0,在2～20μm间没有严重的吸收带,莫氏硬度达8级。用它作锗的增透膜,锗片厚度为1mm,在10.6μm处透射率可达93～95％。一、制备类金刚石碳膜的几种方法热分解淀积在低压下热分解烃气使碳沉 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
| 点击此处可从《激光与红外》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《激光与红外》下载全文 | |