| 电感耦合等离子体质谱法测定高纯镓中痕量元素 |
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| 引用本文： | 罗梅. 电感耦合等离子体质谱法测定高纯镓中痕量元素[J]. 河南冶金, 2004, 12(2): 22-23,41 |
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| 作者姓名： | 罗梅 |
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| 作者单位： | 中国铝业股份有限公司河南分公司 |
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| 摘 要： | 探讨了电感耦合等离子体质谱仪(ICP—MS)测定高纯镓中痕量元素的新技术，实验采用气固反应原理分离镓主体，富集杂质元素；采用10ng/ml Rh和Se为双内标补偿校正镓基体的抑制效应，采用碰撞室(CCT)技术消除多元素分子离子的干扰；使分离富集技术与ICP—MS技术联用，可满足99．9999％超高纯镓的分析要求。方法的检出限0．001～0．01μg／L，加标回收在90．6％～111．1％之间，RSD为0．27％～7．00％。
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| 关 键 词： | 高纯镓 痕量元素 ICP-MS 测定 电感耦合等离子体质谱仪 |
INDUCTIVE COUPLING PLASMA MASS-SPECTROMETRIC METHOD OF DETERMINING THE TRACE ELEMENT IN HIGH-PURITY GALLIUM |
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| Luo Mei. INDUCTIVE COUPLING PLASMA MASS-SPECTROMETRIC METHOD OF DETERMINING THE TRACE ELEMENT IN HIGH-PURITY GALLIUM[J]. Henan Metallurgy, 2004, 12(2): 22-23,41 |
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| Authors: | Luo Mei |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ICP-MS trace impurity CCT technology high-purity gallium separation and concentration |
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