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利用磁会切均化器对膜厚度分布的优化

引用本文：	Conn.,JW 王惠三.利用磁会切均化器对膜厚度分布的优化[J].国外核聚变与等离子体应用,1999(5):62-67.

作者姓名：	Conn. JW 王惠三

摘要：
关键词：	阴极真空弧 S过滤器磁会切均化器薄膜沉积
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