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GH903合金的离子注入表面改性研究
引用本文:彭郁卿,朱金元,翁惠民. GH903合金的离子注入表面改性研究[J]. 核技术, 1998, 21(1): 1-6
作者姓名:彭郁卿  朱金元  翁惠民
作者单位:中国科学院上海原子核研究所,中国科学院核分析技术开放研究实验室,上海第五钢铁厂钢铁研究所,中国科学技术大学
摘    要:用离子注入、氧化和慢正电子束分析研究了GH903合金的氧化性能的改善与微观作用机理。注入的Cr+.Y+的能量均为60keV,注入的剂量分别由1x1017.cm-2(Cr+)、1x1015Cm-2(Y+)和[1x1015.cm-2(Y+)+1x1017·cm-2(Cr+)]。结束显示,注入样品与未样品相比。氧化增重分别减少4.8%(注Cr+)、24.2%(注Y+)和32.3%(注Y++Cr+)。这表明合金氧化性能改善的作用机理主要是注入离子对样品浅表层内缺陷的填充与退火。同时,注入元素的化学性能和使样品表面更致密也起了重要作用。

关 键 词:离子注入 慢正电子束分析 合金 表面改性 铬

Investigation of surface modification of the ion-implanted GH903 alloy
PENG Yuqing. Investigation of surface modification of the ion-implanted GH903 alloy[J]. Nuclear Techniques, 1998, 21(1): 1-6
Authors:PENG Yuqing
Abstract:
Keywords:GH903 alloy   Ion-implantation   Oxidation   Slow positron beam analysis
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