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| 专利集锦 | |
| 摘 要： | 气相沉积法制备空心的镍型材;在等离子体增强化学气相沉积的系统中提高薄膜均一性的方法;在凝胶晶体模板上化学气相沉积制备多孔材料;紫外光和等离子体辅助金属有机化学气相沉积系统;气相沉积法制备一氧化硅薄膜;电子束物理气相沉积工艺;化学气相沉积法制备有机硅薄膜;……编者按] |
| 关 键 词： | 等离子体增强化学气相沉积 化学气相沉积法 化学气相沉积系统 氧化硅薄膜 专利 等离子体辅助 多孔材料 金属有机 |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ | |
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