| 钽件专用离子渗氮设备研制 |
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| 引用本文： | 曾卫军,张德元,陈智琴,周喆,付青峰. 钽件专用离子渗氮设备研制[J]. 金属热处理, 2004, 29(3): 48-50 |
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| 作者姓名： | 曾卫军 张德元 陈智琴 周喆 付青峰 |
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| 作者单位： | 1. 江西省科学院应用物理研究所,江西,南昌,330029
2. 国家863计划材料表面工程技术研究开发中心,广东,深圳,518029 |
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| 摘 要： | 针对精密钽制零件表面渗氮的特殊要求，通过炉内阴极面积可调的结构设计，研制了温度可达850℃，压升率低于0．0045Pa／min的钽专用离子渗氮炉。将阴极分成若干独立部分，单独将某些部分接入负偏压用作辅助阴极，也可将其中某些部分接入零电位用作辅助阳极，也可保持悬浮电位，只用作隔热屏，将等离子体参数和温度、阴极电流和电压施行独立调控。通过工艺试验，成功地实现了精密钽件的离子渗氮，获得了高硬度、低粗糙度的渗氮层。
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| 关 键 词： | 钽件 离子渗氮 设备 |
| 文章编号： | 0254-6051(2004)03-0048-03 |
Research and Manufacture of Ion-Nitriding Equipment for Tantalum Parts |
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| ZENG Wei-jun,ZHANG De-yuan,CHEN Zhi-qin,ZHOU Zhe,FU Qing-feng. Research and Manufacture of Ion-Nitriding Equipment for Tantalum Parts[J]. Heat Treatment of Metals, 2004, 29(3): 48-50 |
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| Authors: | ZENG Wei-jun ZHANG De-yuan CHEN Zhi-qin ZHOU Zhe FU Qing-feng |
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| Affiliation: | ZENG Wei-jun~1,ZHANG De-yuan~2,CHEN Zhi-qin~1,ZHOU Zhe~1,FU Qing-feng~1 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | tantalum parts ion-nitriding equipment |
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