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PLT铁电薄膜的漏电流与I—V特性的研究
引用本文:李志棠 任巍. PLT铁电薄膜的漏电流与I—V特性的研究[J]. 压电与声光, 1997, 19(3): 167-175
作者姓名:李志棠 任巍
作者单位:西安交通大学电子材料与器件研究所
摘    要:室温下在MOD法制备的PLT铁电薄膜的样品上,观察不同电场强度下电流随时间的变化,根据电流的变化情况,把电场划分为弱、中、强三个区间。在弱场下,电流随时间的变化可用幂指数的衰减来模拟,而且衰减系数随场强的增加有减小的趋势。在中强场时,电流随时间在水平方向上上下波动。在强场下,电流随时间在波动的同时不断增大。因此在对不同区间电流随时间变化I(t)曲线分析的基础上,确定某一电场强度下的漏导电流,作出了I-V曲线。同时发现不同配方,在相同工艺条件下的样品,其弱、中、强场的数值区间是不一样的,因此作出的I-V曲线也有所区别。对非欧姆区的导电机理用空间电荷限制电流(SCLC)模型和晶界限制电流(GBLC)模型来解释,同时对样品正向与反向的导电机理进行了对比研究。而且对热释电电流测量中有指导意义的薄膜充电后缓慢的放电过程进行了观察和分析

关 键 词:铁电薄膜,漏导电流,I-V曲线,SCLC理论,GBLC模型

Current Characteristics and Leakage Current of Ferroelectric PLT Thin Films
Song Zhitang Ren Wei Zhang Liangying Yao Xi. Current Characteristics and Leakage Current of Ferroelectric PLT Thin Films[J]. Piezoelectrics & Acoustooptics, 1997, 19(3): 167-175
Authors:Song Zhitang Ren Wei Zhang Liangying Yao Xi
Abstract:
Keywords:ferroelectric film  leakage current   I V curves SCLC model  GBLC model  
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