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回旋管M型阴极的覆膜工艺及夹持装置的设计改进
引用本文:杨彦虹. 回旋管M型阴极的覆膜工艺及夹持装置的设计改进[J]. 真空电子技术, 2011, 0(3): 62-63
作者姓名:杨彦虹
作者单位:北京真空电子技术研究所,北京,100015
基金项目:致谢:感谢王立民师傅在模具最初改进过程中给提出的意见和改进办法,感谢陈其略教授和阎肃秋师傅在写论文及修改论文时给予的帮助.
摘    要:简要介绍了用于回旋管的M型阴极的制作工艺特点,重点讲述了在覆膜工序中夹持装置的设计及改进工作。

关 键 词:M型阴极  覆膜  回旋管

The Improvement of Coating Process and the Mold Design of the M-Type Cathode for Gyrotron
Yang Yan-hong. The Improvement of Coating Process and the Mold Design of the M-Type Cathode for Gyrotron[J]. Vacuum Electronics, 2011, 0(3): 62-63
Authors:Yang Yan-hong
Affiliation:Yang Yan-hong(Beijing Vacuum Electronics Research Institute,Beijing 100015,China)
Abstract:This paper briefly introduces the coating process of M-type cathode for gyrotron.The mold design improvement of the coating is also discussed.
Keywords:M-type cathode  Coating  Gyrotron  
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