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| CHN薄膜化学结构和成分分析 | |
| 引用本文： | 李建根,吴卫东,干泰原,曹林洪. CHN薄膜化学结构和成分分析[J]. 真空, 2011, 48(3) |
| 作者姓名： | 李建根 吴卫东 干泰原 曹林洪 |
| 作者单位： | 1. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳621900;西南科技大学理学院,四川绵阳621010;西南科技大学极端条件物质特性实验室,四川绵阳621010 2. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳621900;西南科技大学理学院,四川绵阳621010;西南科技大学材料科学与工程学院,四川绵阳621010;西南科技大学极端条件物质特性实验室,四川绵阳621010 3. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳621900;西南科技大学材料科学与工程学院,四川绵阳621010;西南科技大学极端条件物质特性实验室,四川绵阳621010 |
| 摘 要： | 采用外置式电容耦合低压等离子化学气相沉积法制备非晶CHN薄膜.X射线光电子能谱仪分析表明薄膜表面C、N和O的相对含量比,同时随着N2/CH4比例增大,薄膜中N元素的含量逐渐增加;并且对薄膜中存在的C-N共价键进行了讨论;傅里叶红外透射光谱分析表明薄膜中存在C-N键和其他官能团;拉曼光谱分析表明随着N2/CH4比例增大,D峰和G峰的中心位置先远离然后靠近,并且D峰和G峰的面积比逐渐增加,源于薄膜无序度增加且逐渐趋于石墨化. |
| 关 键 词： | 化学气相沉积 X射线光电子能谱 傅里叶红外透射光谱 拉曼光谱 化学键 |
Chemical structure and composition of CHN thin films |
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| LI Jian-gen,WU Wei-dong,GAN Tai-yuan,CAO Lin-hong. Chemical structure and composition of CHN thin films[J]. Vacuum(China), 2011, 48(3) | |
| Authors: | LI Jian-gen WU Wei-dong GAN Tai-yuan CAO Lin-hong |
| Affiliation: | LI Jian-gen1,2,4,WU Wei-dong1,3,GAN Tai-yuan1,CAO Lin-hong1,4(1.Research Center of Laser Fusion,CAEP,Mianyang 621900,China,2.School of Science,Southwest University of Science and Technology,Mianyang 621010,3.School of Materials Science and Engineering,4.Laboratory of Matter Characteristic Research at Extreme Conditions,China) |
| Abstract: | The amorphous CHN thin films were prepared via external capacitive coupling LPPCVD(low pressure plasma chemical vapor deposition).X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) showed that with the increase of N2/CH4 ratio,the content of N in the film increases gradually.The C-N covalent bond existed in the film was also discussed.The fourier transform infrared spectroscopy(FTIR) indicated the existence of C-N chemical bond and other functional groups.The Raman spectrum showed that the central positions of D peak an... |
| Keywords: | PCVD XPS FTIR spectrum Raman spectroscopy chemical bond |
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