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| N^＋离子注入TiNi形状记忆合金的微观表面分析 | |
| 引用本文： | 封向东,王治国,祖小涛,戴晶怡.N^＋离子注入TiNi形状记忆合金的微观表面分析[J].稀有金属材料与工程,2003,32(4):309-312. |
| 作者姓名： | 封向东 王治国 祖小涛 戴晶怡 |
| 作者单位： | 1. 四川大学,四川,成都,610064 2. 四川大学,四川,成都,610064;电子科技大学应用物理系,四川,成都,610054 3. 中国工程物理研究院电子工程研究所,四川,绵阳,621907 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(10175042) |
| 摘 要： | 对TiNi形状记忆合金N+离子注入后进行了XRD分析以及XPS分析.N+离子注入的能量为75keV,束流为16.3μA/cm2,注量分别为3×1017N+cm-2和8×1017N+cm-2,注入过程中温度低于200℃.XRD和XPS分析结果都表明N+离子注入试样后以TiN的形式存在;且由于离子注入时的真空度较低,在注入层的表面也形成了少量的TiO2;由于Ni的溅射系数比Ti的大,在试样XPS宽程扫描图中,没有出现Ni的信号. |
| 关 键 词： | 离子注入 TiNi形状记忆合金 微观表面分析 XRD XPS |
| 文章编号： | 1002-185X(2003)04-0309-04 |
| 修稿时间： | 2001年7月13日 |
Micro- analysis of N+ Ion- implanted TiNi Shape Memory Alloy |
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| Feng Xiangdong,Wang Zhiguo,Zu Xiaotao,Dai Jinyi.Micro- analysis of N+ Ion- implanted TiNi Shape Memory Alloy[J].Rare Metal Materials and Engineering,2003,32(4):309-312. | |
| Authors: | Feng Xiangdong Wang Zhiguo Zu Xiaotao Dai Jinyi |
| Abstract: | |
| Keywords: | TiNi shape memory alloy N + ion implantation TiN |
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