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SOI材料片缺陷研究
引用本文:孙建洁,吴建伟,陈海峰.SOI材料片缺陷研究[J].电子与封装,2012,12(4):34-37.
作者姓名:孙建洁  吴建伟  陈海峰
作者单位:中国电子科技集团公司第58研究所,江苏无锡,214035
摘    要:SOI材料天然具有抗瞬时辐射的能力,文章介绍了SOI(绝缘体上硅)两类不同材料片SIMOX(注氧隔离法)SOI和Bonded Smart-Cut(智能剥离法)SOI的生产工艺流程。针对SOI材料片的特殊结构——顶层硅/埋氧绝缘层/衬底结构——对各个层次的缺陷进行详细的介绍,并对其在半导体工艺中产生的影响做了深入的阐述。结合目前实际工艺生产线的情况,将SOI材料片的检测分为两大类:可直接测试的表面及内部缺陷;间接的材料性能特征检测。同时提供了大量SOI材料片可行的测试原理,为工艺线SOI材料片缺陷检验提供了有效的方法。

关 键 词:绝缘体上硅  缺陷  SIMOX  键合后智能剥离

Study on SOI Specific Material Defects
SUN Jian-jie,WU Jian-wei,CHEN Hai-feng.Study on SOI Specific Material Defects[J].Electronics & Packaging,2012,12(4):34-37.
Authors:SUN Jian-jie  WU Jian-wei  CHEN Hai-feng
Affiliation:(China Electronics Technology Group Corporation No.58 Research Institute,Wuxi 214035,China)
Abstract:SOI materials have capacity of radiation tolerant.Introduce process flow of two different type SOI materials(SIMOX and Bonded Smart-Cut).For SOI special structure: top Si/BOX/substrate,analyze the defect and effect of different SOI materials.Combine theory with practice,SOI materials detection has two types: direct detectable defect;indirect detect of materials features.Apply available method for detect the defect of SOI materials.
Keywords:SOI  defect  SIMOX  bonded smart-cut
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