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| 用光致抗蚀剂作牺牲层材料制作可动微机械 | |
| 引用本文： | 崔铮,Ｄ．Ｐｒｅｗｅｔｔ.用光致抗蚀剂作牺牲层材料制作可动微机械[J].光电工程,1997(Z1). |
| 作者姓名： | 崔铮 Ｄ．Ｐｒｅｗｅｔｔ |
| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室(崔铮)，英国卢瑟福国家实验室微结构中心(Ｄ．Ｐｒｅｗｅｔｔ) |
| 摘 要： | 报道了用光致抗蚀剂作牺牲层材料制作可动微机械结构的一种新技术。用这种技术制作可动微机械，动件和固定件同时制作。要求的掩模数减到最少。同现有的牺牲层材料相比，光致抗蚀剂作牺牲层材料具有一些优越性。首先，光致抗蚀剂能直接涂敷，能直接光刻成形。此外，用光致抗蚀剂作牺牲层材料不影响结构的厚度和材料的选择。工艺优化后，结构洁净度、固定件与基片的结合强度及牺牲层去除速度都得到了改善。 |
| 关 键 词： | 光致抗蚀剂，损耗层，微机械，光刻工艺 |
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