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日本共同研研制使用远紫外光的反射投影型曝光装置
作者姓名:
赵玉明
摘 要:
超大規模集成技术研究组合共同研究所与卡诺公司共同研制了使用远紫外光的反射投影型露光装置。予计卡诺公司从今年秋天可开始投入市场。该装置的分辨率为1μm。对5英寸的片子每小时可曝光60片。采用自动对准机构,其精度为0.3μm,焦深为±4μm。
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