| Ti表面磁控溅射Nb膜的研究 |
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| 引用本文： | 姚为,吴爱萍,邹贵生,任家烈.Ti表面磁控溅射Nb膜的研究[J].真空科学与技术学报,2007,27(Z1):41-44. |
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| 作者姓名： | 姚为 吴爱萍 邹贵生 任家烈 |
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| 作者单位： | 清华大学机械工程系先进成形制造教育部重点实验室,北京,100084 |
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| 摘 要： | Ti表面磁控溅射Nb膜作为Ti与其他金属连接的合金层或过渡层有着重要的研究意义和实用价值.本文研究了基体温度、薄膜厚度、真空退火对Nb膜附着性和组织结构的影响,应用扫描电镜观察了膜层表面和界面,用X射线衍射分析研究了膜层物相组成,用划痕法测试了薄膜的附着性.结果表明薄膜组织为纤维状晶粒;溅射时对基体适当加热有利于成膜的致密性;一定温度范围内的真空退火可以提高附着性,但不显著,温度达到500 ℃后,薄膜发生剥落;Nb膜厚度从500 nm增加到2000 nm,晶粒变大,附着性变差;溅射及退火过程中均无新相生成.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 铌膜 基体温度 膜厚 真空退火 附着性 |
| 文章编号： | 1672-7126(2007)增-0041-04 |
| 修稿时间： | 2006年10月21 |
Study of Nb Films Deposited on Ti Substrates by Magnetron Sputtering |
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| Yao Wei,Wu Aiping,Zou Guisheng,Ren Jialie.Study of Nb Films Deposited on Ti Substrates by Magnetron Sputtering[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2007,27(Z1):41-44. |
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| Authors: | Yao Wei Wu Aiping Zou Guisheng Ren Jialie |
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