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KDP晶体中杂质缺陷吸收引起的温度场模型
引用本文:张英聪,沈华,朱日宏.KDP晶体中杂质缺陷吸收引起的温度场模型[J].激光与光电子学进展,2014,51(2):21602.
作者姓名:张英聪  沈华  朱日宏
作者单位:张英聪:南京理工大学电子工程与光电技术学院, 江苏 南京 210094
沈华:南京理工大学电子工程与光电技术学院, 江苏 南京 210094
朱日宏:南京理工大学电子工程与光电技术学院, 江苏 南京 210094
基金项目:江苏省普通高校研究生科研创新计划(CXLX13_176)、江苏省自然科学基金(BK2012802)
摘    要:在点源热脉冲传热模型的理论基础上,采用格林函数法建立了由于单个杂质缺陷吸收引起的温度场模型,得到了杂质附近温度场的解析表达式,分析了激光脉冲参数对温度场的影响情况,并在单个杂质吸收的理论基础上推导得到KDP晶体某一区域内含多个杂质吸收的模型。结果表明杂质吸收引起的温度变化与激光脉冲参数密切相关。当杂质间距离小于激光持续时间内产生的热扩散距离时,就会引起杂质间温度场的叠加,并且当杂质密度大到一定程度时,会使杂质团区域的温升加剧,导致晶体发生激光诱导损伤的可能性加大。

关 键 词:材料  KDP晶体  杂质  吸收  损伤
收稿时间:2013/10/28

Model of Temperature Field Caused by the Impurity Defect Absorption in KDP Crystal
Abstract:
Keywords:materials  KDP crystal  impurity  absorption  damage
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