| 硫酸盐镀铜液中氯离子的去除 |
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| 引用本文： | 郑振,顾卫忠,沈婉萍. 硫酸盐镀铜液中氯离子的去除[J]. 电镀与环保, 2005, 25(5): 8-10 |
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| 作者姓名： | 郑振 顾卫忠 沈婉萍 |
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| 作者单位： | 上海应用技术学院,上海,200235;上海应用技术学院,上海,200235;上海应用技术学院,上海,200235 |
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| 摘 要： | 1 前言 酸性硫酸盐镀铜液中的Cl-对于获得性能良好的铜镀层是不可缺少的,但是,当其在镀液中的含量超过一定值时则会产生相反的作用.在配制光亮酸性镀铜液时,由于使用活性炭过滤镀液,会引入一部分Cl-.过多的Cl-则应选择适当的方法去除.
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| 关 键 词： | 酸性镀铜液 酸性硫酸盐 去除 氯离子 Cl^- 铜镀层 活性炭 镀液 |
| 文章编号： | 1000-4742（2005）05-0008-02 |
| 收稿时间： | 2005-04-12 |
| 修稿时间： | 2005-04-12 |
Removal of Cl- Ions in Sulfate Copper Plating Bath |
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| ZHENG Zhen,GU Wei-zhong,SHEN Wan-ping. Removal of Cl- Ions in Sulfate Copper Plating Bath[J]. Electroplating & Pollution Control, 2005, 25(5): 8-10 |
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| Authors: | ZHENG Zhen GU Wei-zhong SHEN Wan-ping |
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| Abstract: | |
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