| 掺钨类金刚石膜的制备与性能研究 |
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| 引用本文： | 侯惠君,李洪武,林松盛,朱霞高,林凯生,代明江. 掺钨类金刚石膜的制备与性能研究[J]. 材料研究与应用, 2006, 16(3): 184-187 |
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| 作者姓名： | 侯惠君 李洪武 林松盛 朱霞高 林凯生 代明江 |
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| 作者单位： | 广州有色金属研究院,广东,广州,510651 |
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| 摘 要： | 采用无灯丝长条离子源结合非平衡磁控溅射的方法,在不同基体上制备了面积较大、光滑、均匀的掺钨类金刚石(W-DLC)膜层,用SEM、Raman、XPS、XRD、硬度计、划痕仪、摩擦磨损试验机等手段分析和研究了膜层的形貌、结构及部分性能.结果表明膜/基硬度高,W-DLC/Si为Hv0.025 15=3577;膜/基结合力在45～75N之间;摩擦系数小,抗磨损性能良好.
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| 关 键 词： | 掺钨类金刚石膜 无灯丝离子源 非平衡磁控溅射 |
| 文章编号： | 1003-7837(2006)03-0184-04 |
| 修稿时间： | 2006-07-13 |
Study on the properties of diamond-like carbon films doped with W deposited by ion technology |
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| HOU Hui-jun,LI Hong-wu,LIN Song-sheng,ZHU Xia-gao,LIN Kai-sheng,DAI Ming-jiang. Study on the properties of diamond-like carbon films doped with W deposited by ion technology[J]. MATERIALS RESEARCH AND APPLICATION, 2006, 16(3): 184-187 |
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| Authors: | HOU Hui-jun LI Hong-wu LIN Song-sheng ZHU Xia-gao LIN Kai-sheng DAI Ming-jiang |
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