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| 离子束辅助沉积制备TiO2—Nb2OT氧敏薄膜 | |
| 引用本文： | 牟海川,朱建中.离子束辅助沉积制备TiO2—Nb2OT氧敏薄膜[J].功能材料与器件学报,1997,3(1):83-88. |
| 作者姓名： | 牟海川 朱建中 |
| 作者单位： | [1]中国科学院上海冶金研究所离子束开放研究实验室 [2]中国科学院上海冶金研究所传感技术国家 |
| 摘 要： | 采用离子束辅助沉积方法在Ａｌ２Ｏ３陶瓷衬底上制备了ＴｉＯ２－Ｎｂ２Ｏ５的氧敏薄膜。考察了薄膜组分比及退火温度对薄膜氧敏特性和结果的影响。电阻－氧分压特性测试结果表明，纯Ｎｂ２Ｏ５薄膜的氧敏特性优于纯ＴｉＯ２薄膜；掺入少量的Ｔｉ可使Ｎｂ２Ｏ５薄膜的氧敏特性提高，以５ｍｏｌ％ＴｉＯ２掺杂的Ｎｂ２Ｏ５薄膜最佳； |
| 关 键 词： | 氧化物半导体 氧敏薄膜 薄膜 离子束辅助沉积 |
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