基于X荧光涂层厚度测量的Geant4模拟

Geant4以其快速,方便,灵活的特点在核技术研究中得到了广泛的应用。本文通过利用Geant4,对基于X荧光涂层厚度测量方法,主要对激发源的优化设计、探测器放置的位置对探测效率的影响、涂层厚度测量的范围等问题进行了研究,得到:不同基底金属的特征X射线强度随涂层厚度变化的关系,本套实验系统中X荧光的空间几何分布和最佳的探测器放置位置,不同能量及不同入射方向的源射线对X荧光激发效率的影响。为进一步优化测量系统提供了理论依据。