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GaN的RBS/沟道、X射线双晶衍射和光致发光谱
引用本文:姚冬敏,辛勇,王立,李述体,熊传兵,彭学新,刘念华,江风益.GaN的RBS/沟道、X射线双晶衍射和光致发光谱[J].半导体学报,2000,21(5):437-440.
作者姓名:姚冬敏  辛勇  王立  李述体  熊传兵  彭学新  刘念华  江风益
作者单位:南昌大学材料科学研究所!南昌330047(姚冬敏,辛勇,王立,李述体,熊传兵,彭学新,刘念华),南昌大学材料科学(江风益)
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划);;
摘    要:采用卢瑟福背散射及沟道效应、X射线双晶衍射和光致发光谱三种技术对两类未故意掺杂的MOVPE生长的GaN样品进行综合测试.它们在表征GaN单晶膜质量方面结果一致

关 键 词:GaN    RBS/沟道    X射线双晶衍射    光致发光
文章编号:0253-4177(2000)05-0437-04
修稿时间:1999年2月9日

Rutherford Backscattering and Channeling,Double Crystal X-ray Diffraction and Photoluminescence of GaN
YAO Dong\|min,XIN Yong,WANG Li,LI Shu\|ti,XIONG Chuan\|bing,PENG Xue\|xin,LIU Nian\|hua and JIANG Feng\|yi.Rutherford Backscattering and Channeling,Double Crystal X-ray Diffraction and Photoluminescence of GaN[J].Chinese Journal of Semiconductors,2000,21(5):437-440.
Authors:YAO Dong\|min  XIN Yong  WANG Li  LI Shu\|ti  XIONG Chuan\|bing  PENG Xue\|xin  LIU Nian\|hua and JIANG Feng\|yi
Abstract:Rutherford Backscattering and Channeling\,double crystal X\|ray diffraction\,photoluminescence technique are used to study the quality of undoped GaN layers grown by organometallic vapor phase epitaxy on Al\-2O\-3 substrates.The results show that they have good agreements with each other in characterizing the quality of GaN films.
Keywords:GaN  RBS/channeling  XRD  PL
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