| PECVD制备a-C:H:N薄膜的微观结构研究 |
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| 引用本文： | 郝俊英,徐洮,李红轩,刘维民,刘惠文. PECVD制备a-C:H:N薄膜的微观结构研究[J]. 电子显微学报, 2004, 23(4): 431-431 |
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| 作者姓名： | 郝俊英 徐洮 李红轩 刘维民 刘惠文 |
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| 作者单位： | 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 (No 5 0 172 0 5 2、5 0 3 2 3 0 0 7)，国家 863项目 ( 2 0 0 3AA3 0 5 670 )，中国科学院百人计划资助项目 |
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| 摘 要： | 非晶含氢碳膜(amorphous ydmgenated arbon a-C：H films)在力学、热学、电学、化学、光学等方面具有优异的性能，被广泛应用于诸多领域，有巨大的应用前景。随着a-C：H薄膜制备技术的进一步完善，在此基础上的改性材料又引起了人们的注意。氮掺杂类金刚石薄膜(a-C：H：N)近年来成为人们研究的
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| 关 键 词： | 非晶含氢碳膜 射频等离子体增强化学气相沉积 微观结构 显微结构分析 傅立叶红外光谱仪 原子力显微镜 |
Study on the microstructure of nitrogen doped amorphous carbon films (a-C:H:N) prepared by PECVD |
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