| 衬底温度对磁控溅射法制备ZnO薄膜结构及光学特性的影响 |
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| 作者姓名： | 徐小丽 马书懿 陈彦 孙小菁 魏晋军 张国恒 |
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| 作者单位： | 西北师范大学,物理与电子工程学院,甘肃,兰州,730070;西北师范大学,物理与电子工程学院,甘肃,兰州,730070;西北师范大学,物理与电子工程学院,甘肃,兰州,730070;西北师范大学,物理与电子工程学院,甘肃,兰州,730070;西北师范大学,物理与电子工程学院,甘肃,兰州,730070;西北师范大学,物理与电子工程学院,甘肃,兰州,730070 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金
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教育部科学技术研究重点项目
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甘肃省重点实验室基金 |
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| 摘 要： | 采用射频反应磁控溅射法在玻璃衬底上制备了具有c轴高择优取向的ZnO薄膜,利用X射线衍射仪、扫描探针显微镜及紫外分光光度计研究了生长温度对ZnO薄膜的结构及光学吸收和透射特性的影响.结果表明,合适的衬底温度有利于提高ZnO薄膜的结晶质量;薄膜在紫外区显示出较强的光吸收,在可见光区的平均透过率达到90%以上,且随着衬底温度的升高,薄膜的光学带隙减小、吸收边红移.采用量子限域模型对薄膜的光学带隙作了相应的理论计算,计算结果与实验值符合得较好.
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| 关 键 词： | 射频磁控溅射 ZnO薄膜 X射线衍射 光学特性 量子限域 |
| 文章编号： | 1001-9731(2007)05-0746-04 |
| 修稿时间： | 2006-11-08 |
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