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低噪声砷化镓金属-半导体场效应晶体管的制造与性能
引用本文:B.S.Hewitt,H.M.Cox,陈锡君.低噪声砷化镓金属-半导体场效应晶体管的制造与性能[J].微纳电子技术,1979(3).
作者姓名:B.S.Hewitt  H.M.Cox  陈锡君
摘    要:用投影光刻制造亚微米栅砷化镓金属-半导体场效应晶体管,获得了在4千兆赫下噪声0.8分贝、6千兆赫下噪声1.3分贝、相关的增益至少9分贝的结果。

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