日本CVD技术的新进展

表面改性有两种类型,其一为表面处理,由此改变表面的化学成分或物理、机械性能;其二为薄膜沉积或镀层,由此产生一新的表面。近二十年,表面改性技术由于新工艺的出现发展迅速,在微电子学工业得到广泛应用。并取得显著经济效益。开发表面改性技术的主要目的即降低成本(用廉价的材料于一些特殊用途)、改善性能(如耐磨性、耐蚀性)及获得独特的性能(如特殊的电、光特性)。在日本,气相沉积技术已很普及,工业界、政府,大学试验室做了大量的研究工作。日本这一技术可以说处于世界先进水平。