| TFT用掩模版与TFT-LCD阵列工艺 |
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| 引用本文： | 李文波,王刚,张卓,胡望,刘宏宇,邵喜斌,徐征. TFT用掩模版与TFT-LCD阵列工艺[J]. 半导体技术, 2010, 35(6): 522-526,559. DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2010.06.002 |
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| 作者姓名： | 李文波 王刚 张卓 胡望 刘宏宇 邵喜斌 徐征 |
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| 作者单位： | 北京交通大学,光电子技术研究所,北京100044;京东方科技集团股份有限公司,技术研发中心,北京100015;京东方科技集团股份有限公司,技术研发中心,北京100015;北京交通大学,光电子技术研究所,北京100044 |
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| 基金项目： | 国家"863"计划资助项目，中国博士后科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)产业经过20年的发展,其规模已经远远超出10年前的预想,技术发展也呈现出加速进步的趋势.各种新一代光刻技术的出现显著提升了掩模版的制作精度,对其市场价格也造成了不小的冲击.在TFT-LCD阵列基板制造方面,4掩模版光刻工艺技术逐渐成为当今主流,而3掩模版光刻工艺因其技术难度大、良品率低,目前还掌握在少数几家TFT-LCD厂商手中.通过对掩模版的国内外市场行情、技术进展以及掩模版数目与TFT-LCD阵列工艺的关系作全面的阐述,指出加强TFT-LCD掩模版等配套材料的自主研发、采用更加先进的制造技术是简化生产工艺、降低生产成本的有效手段,也是我国TFT-LCD产业下一步努力发展的方向.
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| 关 键 词： | 掩模版 薄膜晶体管液晶显示器 阵列工艺 技术进展 市场行情 |
Mask Used for TFT and TFT-LCD Array Technology |
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| Li Wenbo,Wang Gang,Zhang Zhuo,Hu Wang,Liu Hongyu,Shao Xibin,Xu Zheng. Mask Used for TFT and TFT-LCD Array Technology[J]. Semiconductor Technology, 2010, 35(6): 522-526,559. DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2010.06.002 |
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| Authors: | Li Wenbo Wang Gang Zhang Zhuo Hu Wang Liu Hongyu Shao Xibin Xu Zheng |
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| Affiliation: | Li Wenbo1,2,Wang Gang2,Zhang Zhuo2,Hu Wang2,Liu Hongyu2,Shao Xibin2,Xu Zheng1(1.Institute of Optoelectronic Technology,Beijing Jiaotong University,Beijing 100044,China,2.Technology R & D Center,BOE Technology Group Co.,Ltd.,Beijing 100015,China) |
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| Abstract: | TFT-LCD(thin film transistor liquid crystal display) industry underwent development in the last 20 years,its scale is far beyond the expectation of 10 years ago,and its technology development shows a tendency to accelerate progress.The various kinds of application in new generation photolithograph technologies remarkably promoted the precision of mask,and caused great impact to its market price.4 mask photolithograph technology becomes current mainstream gradually in respect to TFT-LCD array backplane fabri... |
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| Keywords: | mask thin film transistor liquid crystal display(TFT-LCD) array process technology progress market |
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