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| 脉冲激光沉积（La（0．2）Bi（0．8）FeO3）（0．8）-（NiFe2O4）（0．2）薄膜及其多铁性能研究 | |
| 引用本文： | 李享成,杨光,戴能利,陈爱平,龙华,姚凯伦,陆培祥.脉冲激光沉积（La（0．2）Bi（0．8）FeO3）（0．8）-（NiFe2O4）（0．2）薄膜及其多铁性能研究[J].无机材料学报,2008,23(5). |
| 作者姓名： | 李享成 杨光 戴能利 陈爱平 龙华 姚凯伦 陆培祥 |
| 作者单位： | 1. 华中科技大学,武汉光电国家实验室激光科学与技术研究部武,物理系,武汉,430074;武汉科技大学,高温陶瓷与耐火材料湖北省重点实验室,武汉,430081 2. 华中科技大学,武汉光电国家实验室激光科学与技术研究部武,物理系,武汉,430074 3. 华中科技大学,物理系,武汉,430074 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金，教育部高等学校博士学科点专项科研基金 |
| 摘 要： | 采用脉冲激光沉积法,在(100)SrTiO3基底上,制备了(La0.2Bi0.8FeO3)0.8-(NiFe2O4)0.2(LBFO-NFO)多铁薄膜,通过X射线衍射仪和场发射扫描电子显微镜确定了LBFO-NFO多铁薄膜的显微结构,通过标准铁电测试系统(RT-66A)和振动样品磁强计(VSM)分别测试了LBFO-NFO多铁薄膜的铁电性能和铁磁性能.研究发现:多铁薄膜中LBFO和NFO二相均沿(100)方向外延生长,晶粒尺寸在100-150nm之间;薄膜具有明显的电滞回线(Ps=7.6μC/cm2)和磁滞回线(Ms=4.12×104A/m),显示出明显的铁电铁磁共存特性.通过对薄膜生长条件的控制,可削除杂质相,减小LBFO-NFO薄膜的漏电流,提高铁电及铁磁性能. |
| 关 键 词： | 多铁薄膜 外延生长 脉冲激光沉积 漏电流 |
Multiferroic Properties of(La0.2Bi0.8FeO3)0.8-(NiFe2O4)0.2 Films Grown by Pulse Laser Deposition |
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| LI Xiang-Cheng,YANG Guang,DAI Neng-Li,CHEN Ai-Ping,LONG Hua,YAO Ka-iLun,LU Pei-Xiang.Multiferroic Properties of(La0.2Bi0.8FeO3)0.8-(NiFe2O4)0.2 Films Grown by Pulse Laser Deposition[J].Journal of Inorganic Materials,2008,23(5). | |
| Authors: | LI Xiang-Cheng YANG Guang DAI Neng-Li CHEN Ai-Ping LONG Hua YAO Ka-iLun LU Pei-Xiang |
| Abstract: | |
| Keywords: | |
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