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| 基于NMM的AFM测试分析原子光刻纳米光栅样板 | |
| 引用本文： | 汪黎栋,李同保,尚贤平,茅振华.基于NMM的AFM测试分析原子光刻纳米光栅样板[J].计量技术,2012(2):6-9,13. |
| 作者姓名： | 汪黎栋 李同保 尚贤平 茅振华 |
| 作者单位： | 1. 浙江省计量科学研究院,杭州,310013 2. 同济大学物理系,上海,200092 |
| 基金项目： | 国家科技支撑项目“冷原子纳米尺度计量基准关键技术研究”：2006BAF06808 |
| 摘 要： | 利用激光汇聚中性铬原子沉积出一维纳米光栅样板的基础上,基于 NMM的AFM测量系统对样板进行了测试分析和测试方法研究,得到一维纳米光栅结构平均节距为212.6±0 4nm,与52Cr原子共振跃迁(7S3→7P04)的半波长(λ/2)理论值212.8nm基本一致,测试结果非常准确.文章还介绍利用NMM测量机的大范围扫描测试距离,解决了光栅样板的测试区域快速定位的问题,对研究纳米级精度测量有实用价值及参考意义. |
| 关 键 词： | 原子光刻技术 纳米光栅样板 基于NMM的AFM测量系统 |
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