| 聚焦离子束研磨Au-Ti-GaAs薄膜引起损伤的研究 |
| |
| 引用本文： | 谭勇文,徐天伟,谢雪冰,杨卫国,杨海. 聚焦离子束研磨Au-Ti-GaAs薄膜引起损伤的研究[J]. 材料导报, 2008, 22(Z1) |
| |
| 作者姓名： | 谭勇文 徐天伟 谢雪冰 杨卫国 杨海 |
| |
| 摘 要： | 通过分析纳米孔的透射电子显微镜(TEM)截面图像和蒙特卡罗理论模拟,研究了聚焦离子束(FIB)研磨Au-Ti-GaAs薄膜的基本性能.应用蒙特卡罗方法模拟FIB研磨三层薄膜的损伤深度与离子能量大小的关系,由于材料不同的阻止本领和晶体结构等因素对损伤深度的影响,随着离子能量的增大,损伤深度并非线性增加.同时,溅射物质的重沉积也影响着纳米孔的形貌,对此也作了系统的分析和探讨.
|
| 关 键 词： | 聚焦离子束 非晶层 蒙特卡罗方法 光电子器件 |
Investigation of Damage Induced in Focused Ion Beam Milling of Au-Ti-GaAs Thin Films |
| |
| TAN Yongwen,XU Tianwei,XIE Xuebing,YANG Weiguo,YANG Hai. Investigation of Damage Induced in Focused Ion Beam Milling of Au-Ti-GaAs Thin Films[J]. Materials Review, 2008, 22(Z1) |
| |
| Authors: | TAN Yongwen XU Tianwei XIE Xuebing YANG Weiguo YANG Hai |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
|
