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低温多晶硅TFT技术的发展
引用本文:尹盛,刘陈,钟志有,王长安,徐重阳. 低温多晶硅TFT技术的发展[J]. 现代显示, 2003, 0(1): 33-37
作者姓名:尹盛  刘陈  钟志有  王长安  徐重阳
作者单位:华中科技大学电子科学与技术系,湖北,武汉,430074
摘    要:本文综述低温多晶硅(LTPS)TFT技术的最新进展情况。该技术目前的研究前沿是:(1)制作高性能的TFT;(2)在柔性衬底上制作LTPS TFT;(3)驱动有机发光器件的TFT;(4)LTPS TFT的新应用。同时还展望了LTPS TFT技术的未来发展趋势。

关 键 词:TFT 低温多晶硅 薄膜晶体管 平板显示 液晶显示 LTPS 发展趋势
文章编号:1006-6268(2003)01-0033-05
修稿时间:2002-10-24

The Development of Low Temperature Poly-Si TFT Technology
YIN Sheng,LIU Chen,ZHONG Zhi-you,WANG Chang-an,XU Chong-yang. The Development of Low Temperature Poly-Si TFT Technology[J]. Advanced Display, 2003, 0(1): 33-37
Authors:YIN Sheng  LIU Chen  ZHONG Zhi-you  WANG Chang-an  XU Chong-yang
Abstract:This paper describes the progress and current status of low tempera ture poly-Si(LTPS)TFT technology.The focus of current research is on:(1)High-performance TFTs;(2)Poly-Si TFTs directly fabricated on plastic films;(3)The integration of active matrix poly-Si TFT technology with OLED displays;(4)New applications of LTPS TFTs.The future trends of LTPS TFT technology are also presented.
Keywords:low temperature poly-Si  thin-film transition  flat-panel display
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