高纯难熔金属及其硅化物在微电子领域的应用 |
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引用本文: | 何庆春.高纯难熔金属及其硅化物在微电子领域的应用[J].钨钼材料,1994(2):45-49. |
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作者姓名: | 何庆春 |
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摘 要: | 现代微电子装置使用了高纯难熔金属硅化作为接点,栅极,布线,阻挡层和集成电路的喷涂金属粉。这些材料良好的化学稳定性和热稳定性为厚度不到1μm的集成电路的设计铺平了道路。这些应用的重要的先决条件是制取碱金属,碱土笔过渡族元素的含量低于0.05mg/kg(ppm)的高纯难熔金属及其硅化物。铀和钍的残余浓度甚至降到0.0005mg/kg(ppb)以下。
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关 键 词: | 高纯难熔金属 硅化物 微电子 应用 |
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