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有n缓冲层SOI RESURF结构的电场分布解析模型
引用本文:方健,李肇基,张波. 有n缓冲层SOI RESURF结构的电场分布解析模型[J]. 微电子学, 2004, 34(2): 207-210,214
作者姓名:方健  李肇基  张波
作者单位:电子科技大学,微电子所,四川,成都,610054
基金项目:国家"十五"预先研究资助项目(41308020405),模拟集成电路国家重点实验室基金资助项目(51439020103DZ0201)
摘    要:提出了有n缓冲层SOI RESURF结构的电场分布解析模型,采用MEDICI数值仿真,验证了上述模型的正确性。基于所建立的解析模型,获得了缓冲层的最优杂质浓度分布,提出了提高SOI RESURF结构耐压的缓冲层分段变掺杂新结构。

关 键 词:SOI RESURF 电场分布 解析模型 缓冲层 分段变掺杂 智能功率集成电路
文章编号:1004-3365(2004)02-0207-04

An Analytical Model for Electric Field Distribution in SOI RESURF Structure with n Buffer Layer
FANG Jian,LI Zhao-ji,ZHANG Bo. An Analytical Model for Electric Field Distribution in SOI RESURF Structure with n Buffer Layer[J]. Microelectronics, 2004, 34(2): 207-210,214
Authors:FANG Jian  LI Zhao-ji  ZHANG Bo
Abstract:An analytical model for the electric field distribution in SOI RESURF structure with n buffer layer has been developed. MEDICI simulation is used to verify the analytical model. Based on the model, an optimal impurity profile for the buffer layer is obtained. To improve the breakdown voltage, a novel SOI RESURF structure with step doping profile in the buffer layer is proposed.
Keywords:SOI  RESURF structure  Step doping profile  Analytical model
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