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分类号
杂志ISSN号
ULSI制备中多层布线导体铜的抛光液与抛光技术的研究
作者姓名:
刘玉岭 梁存龙
作者单位:
[1]河北工业大学 [2]河北冀雅电子有限公司
摘 要:
提出了在碱性浆料中ULSI多层布线导体铜化学机械抛光的模型,对铜CMP所需达到的平面化、选择性、抛光速率控制、浆料的稳定及洁净度、抛光液成分的优化选择进行了实验研究。
关 键 词:
多层布线 甚大规模集成电路 浆料 抛光液 导体铜
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