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低温抽气的超高真空系统的烘烤
引用本文:R.A.A.Kubiak, ,W .Y.Leong, ,R.M.King ,E.H.C.Parker ,葛明.低温抽气的超高真空系统的烘烤[J].真空,1985(2).
作者姓名:R.A.A.Kubiak    W .Y.Leong    R.M.King  E.H.C.Parker  葛明
摘    要:考虑到超高真空系统烘烤期间低温泵的热负载问题,介绍一种简单的热挡板,该结构允许烘烤到200℃,而且在系统正常工作期间不影响低温泵的高抽速。 获得清洁的超高真空(UVH)的先决条件是能够烤烘真空室,使放气减到最少。这样的系统常用溅射离子泵或扩散泵抽气。但主泵的选用可有多种的考虑。近来,涡轮分子泵和低温泵已经成为经济可行的替换泵种,这就为用户在真空获得手段的选择方面有了更大的回旋余地。由氦气深冷致冷器冷却的低温泵1],其工作原理是将可冷凝的各种气体冻结在一系列冷板上,并将剩余的气体低温吸附在保持8~15K的活性碳表面。…

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