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全光亮化学镀镍磷合金新工艺
引用本文:徐瑞东,王军丽,薛方勤,郭忠诚. 全光亮化学镀镍磷合金新工艺[J]. 电镀与涂饰, 2003, 22(4): 26-28
作者姓名:徐瑞东  王军丽  薛方勤  郭忠诚
作者单位:昆明理工大学,材料与冶金工程学院,云南,昆明,650093
摘    要:研制开发了一种新型的全光亮化学镀镍磷合金工艺,光亮剂对磷的沉积起到积极的促进作用,能够提高镀层中的磷含量。光亮剂的添加使镀液出光速度快、镀层光亮均匀,可以获得全光亮的镍磷合金镀层。扫描电镜和X 射线衍射分析结果表明,高磷合金镀层为非晶态结构。测试表明,镍-磷合金镀层的硬度介于290~490HV之间,且随光亮剂加入量的增加而降低。镀层磨损率在0 00396~0 00498mg/(cm2·h)之间。镀液中光亮剂含量为2mL/L时,所得镀层在10%的HCl介质中腐蚀率最低为0 0002mg/cm2·h。

关 键 词:光亮剂 化学镀 镍磷合金镀层
文章编号:1004-227X(2003)04-0026-03

New process of full-bright electroless Ni-P alloy plating
Abstract:
Keywords:brightener  electroless plating  nickel-pho sphorous alloy
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