阳离子电沉积法制备光致抗蚀剂的研究 |
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引用本文: | 何勇,张云龙.阳离子电沉积法制备光致抗蚀剂的研究[J].感光科学与光化学,1999,17(3):284-287. |
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作者姓名: | 何勇 张云龙 |
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作者单位: | 中国科学院感光化学研究所 |
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摘 要: | 当前,印制电路板已广泛应用于航空、航天、通信、通用电器和计算机等各个领域,而光致抗蚀剂是印制电路板生产中的重要化学品,由于印制电路向着微型化、轻量化、大容量、高密度和高可靠性的方向发展,传统的工艺和材料将不能满足上述要求.因此,电沉积(electri...
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关 键 词: | 抗蚀剂 电沉积 光致抗蚀剂 印制电路板 涂装 |
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