|
|||||
|
|
| 阳离子电沉积法制备光致抗蚀剂的研究 | |
| 引用本文： | 何勇,张云龙.阳离子电沉积法制备光致抗蚀剂的研究[J].感光科学与光化学,1999,17(3):284-287. |
| 作者姓名： | 何勇 张云龙 |
| 作者单位： | 中国科学院感光化学研究所 |
| 摘 要： | 当前，印制电路板已广泛应用于航空、航天、通信、通用电器和计算机等各个领域，而光致抗蚀剂是印制电路板生产中的重要化学品，由于印制电路向着微型化、轻量化、大容量、高密度和高可靠性的方向发展，传统的工艺和材料将不能满足上述要求．因此，电沉积（ｅｌｅｃｔｒｉ... |
| 关 键 词： | 抗蚀剂 电沉积 光致抗蚀剂 印制电路板 涂装 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |