| 乳酸-EDTA双配位剂体系化学镀镍的研究 |
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| 引用本文： | 刘定富,崔东.乳酸-EDTA双配位剂体系化学镀镍的研究[J].电镀与环保,2013,33(3):24-26. |
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| 作者姓名： | 刘定富 崔东 |
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| 作者单位： | 贵州大学,贵州贵阳,550003 |
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| 摘 要： | 配位剂的选择是化学镀镍技术的关键之一。以镀速和镀层中磷的质量分数为评价指标,研究乳酸与EDTA两种配位剂复配对化学镀镍的影响。结果表明:单独使用一种配位剂难以同时满足化学镀镍工艺对镀速与镀层中磷的质量分数的要求;使用双配位剂体系可以兼顾镀速与镀层中磷的质量分数这对矛盾,在乳酸20g/L,EDTA 8g/L的条件下,镀速为17.1μm/h,镀层中磷的质量分数为10.5%。
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| 关 键 词： | 化学镀镍 配位剂 复配 镀速 磷的质量分数 |
A Research on Lactic Acid-EDTA Double Complexing Agent System Electroless Nickel Plating |
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| LIU Ding-fu
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CUI Dong.A Research on Lactic Acid-EDTA Double Complexing Agent System Electroless Nickel Plating[J].Electroplating & Pollution Control,2013,33(3):24-26. |
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| Authors: | LIU Ding-fu CUI Dong |
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| Affiliation: | (Guizhou University,Guiyang 550003,China) |
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