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| 磷吸杂工艺研究 | |
| 引用本文： | 唐穗生.磷吸杂工艺研究[J].电子元器件应用,2007,9(5):79-80. |
| 作者姓名： | 唐穗生 |
| 作者单位： | 汕头华汕电子器件有限公司,广东汕头515041 |
| 摘 要： | 磷吸杂在晶体管芯片制造过程中对改善芯片表面态、减少漏电流等起着重要作用.文中确定了方块电阻为6-8Ω/□(欧姆/方块)的磷吸杂工艺条件,并对过程的相关影响因素进行分析和探讨,同时提出了解决方法. |
| 关 键 词： | 磷吸杂 晶体管 芯片制造 工艺 |
| 收稿时间： | 2007-04-17 |
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