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| 脉冲高能量密度等离子体沉积新型TiAlN薄膜 | |
| 引用本文： | 柳国萍,刘元富,张谷令,杨思泽. 脉冲高能量密度等离子体沉积新型TiAlN薄膜[J]. 新技术新工艺, 2004, 0(5): 54-55 |
| 作者姓名： | 柳国萍 刘元富 张谷令 杨思泽 |
| 作者单位： | 1. 胜利石油管理局胜利石油学校,257000 2. 中国科学院物理研究所,100080 |
| 摘 要： | 利用脉冲高能量密度等离子体技术在室温条件下，在45钢基材上制备出了TiA1N薄膜。利用XRD、SEM等手段分析了薄膜的相组成及显微组织，利用纳米压痕仪测试了薄膜的纳米硬度分布及薄膜与基材的结合力。结果表明：薄膜主要组成相为TiA1N，薄膜组织致密、均匀，薄膜硬度高且与基材结合良好。 |
| 关 键 词： | 脉冲高能量密度等离子体 TiA1N薄膜 45钢 沉积 XRD SEM 显微组织 相组成 纳米压痕仪 |
New Type of TiAlN Film Deposited by Pulsed High Energy Density Plasma |
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| Abstract: | |
| Keywords: | |
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