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氧吸附研究中Si2p谱峰的退卷积
引用本文:戴道宣,徐至中,孙赞红,朱福荣.氧吸附研究中Si2p谱峰的退卷积[J].真空科学与技术学报,1986(Z1).
作者姓名:戴道宣  徐至中  孙赞红  朱福荣
作者单位:复旦大学现代物理研究所 (戴道宣,徐至中,孙赞红),复旦大学现代物理研究所(朱福荣)
摘    要:本文用退卷积方法对吸附氧后的Si2p峰进行了处理,得到Si2p的四个化学位移峰。

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