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| 材料制备工艺 | |
| 摘 要： | Y2002-63209-52 0312060采用非选择外延的高性能0.25μm SiGe和SiGe:CHBT(学生论文)=High performance 0.25μm SiGe andSiGe:C HBTs using non-selective epitexy(student pa- |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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