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| 当前最先进的镀膜技术溅射和离子镀 | |
| 引用本文： | 卢全昌.当前最先进的镀膜技术溅射和离子镀[J].机械工程材料,1986(2). |
| 作者姓名： | 卢全昌 |
| 摘 要： | 溅射沉积和离子镀是当前最先进的镀膜枝术。一离子镀1963年,D.M.Mattox开发了离子镀技术,它是在蒸镀的基础上发展起来的。蒸镀是在10~(-5)～10~(-6)托的真空容器中用加热的方法使镀膜材料蒸发出原子或分子,飞向工件表面而凝聚成一片薄膜(图1)。如果让蒸发粒子通过由氩气或其它气体辉光放电所形成的等离子气体区域,或由炽热的钨丝放射并经电场加速的电子云区域,则部分蒸发粒子变成离子。用高压直流电场把离子加速。高速离子与中性蒸发粒子相碰 |
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